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华为余承东确认国内正研发 EUV 设备
华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发
AI 导读
华为常务董事余承东在国际媒体圆桌会议上确认,中国目前正在研发极紫外光刻(EUV)设备。他表示现阶段国内仍依靠 DUV,但华为正通过“逻辑折叠”等技术在受限情况下提升芯片能力。此外,华为近期发布的 Mate 90 系列搭载了基于“韬定律”的逻辑折叠芯片,旨在通过多层级协同优化持续提升晶体管密度和性能。
推荐理由
原文报道了华为对国内 EUV 设备研发进展的确认,并解释了其通过逻辑折叠技术弥补先进制程受限的替代路径。
来源:IT之家 · ithome.com